針對(duì)半導(dǎo)體濺射工藝 “低壓環(huán)境數(shù)據(jù)漂移、多氣體干擾誤報(bào)、高溫場(chǎng)景穩(wěn)定性差” 三大痛點(diǎn)，工采網(wǎng)建議采用雙傳感復(fù)合監(jiān)測(cè)技術(shù)：融合 “催化燃燒 + 熱導(dǎo)式” 雙傳感器，覆蓋爆炸極限監(jiān)測(cè) 0-100% LEL與高純氫氣純度檢測(cè)99.999%-100%全量程。其中催化燃燒氫氣傳感器快速響應(yīng)，可快速捕捉 PVD 腔體泄漏的微量氫氣(低至 0.1% LEL);熱導(dǎo)式氫氣傳感器高分辨率，可以精準(zhǔn)監(jiān)測(cè)作為載氣的高純氫氣純度，確保薄膜沉積質(zhì)量。