隨著電子工業(yè)的快速發(fā)展，對作為電子元器件基礎的印刷電路板及其加工精度的要求越來越高。其中，光刻是芯片制造中的圖案化過程，能夠將圖案從光掩模轉移到襯底上。光刻設備是微結構加工的核心設備，廣泛應用于微電子、生物、醫(yī)學和光學等領域。

現(xiàn)在市面上大部分的芯片都屬于電子芯片，當電子芯片的工藝小于一定規(guī)模時，就必須依靠光刻機來做芯片。也就是說，沒有光刻機，就沒有辦法做出頂級芯片，比如市面上的7nm芯片、5nm芯片。芯片在生活中很重要，比如電腦、手機等電子產品。

光刻就是制作芯片制作所需的電路和功能區(qū)域。利用掩模光刻機發(fā)出的光，通過帶有圖案的掩模對涂有光刻膠的薄片進行曝光，光刻膠看到光后會改變其性質，從而可以將掩模上的圖案復制到薄片上，使薄片具有電子電路圖的功能。這就是光刻的作用，類似相機攝影。相機拍攝的照片印在底片上，但電路圖和其他電子元件是用光刻法蝕刻的，而不是照片。

紫外光刻的原理是在切割好的晶圓(通常是多晶硅)上覆蓋一層高感光的光刻膠，然后通過掩膜版用光(通常是紫外光、深紫外光、極紫外光)照射晶圓表面。紫外光照射的光刻膠會發(fā)生反應。之后，用特定的溶劑清洗照射/未照射的光刻膠，并將電路圖從掩模轉移到晶片上。簡單來說就是用紫外線將多層電路圖刻在晶圓上，這個過程中必須使用光刻機。

需要注意的是，紫外光刻機對光源有一定的要求：

1、紫外線的波長要適中。波長越短，可以曝光的特征尺寸越小，光刻的刀片越鋒利，刻蝕的精度控制要求越高。

2、紫外線強度應該足夠。能量越大，曝光時間越短；

3、紫外線曝光能量必須均勻分布在曝光區(qū)域。

紫外線傳感器是一種檢測紫外線強度的元件，可以用于檢測紫外光刻過程中紫外線的能量情況，工采網(wǎng)技術工程師推薦以下兩款紫外線傳感器：

韓國GENICOM 紫外線傳感器 - GUVA-T11GD-L，具有良好的可見盲，光伏模式操作，高響應，低暗電流，應用于全UV波段監(jiān)控，UV-A燈監(jiān)控，可廣泛應用于：紫外線強度檢測和控制，UV指數(shù)檢測。

韓國GENICOM 可見光傳感器 - GVGR-T10GD，芯片小于0.4mm，TO-46封裝，使用的銦鎵氮材料，內含PN型光電二極管，光伏模式操作，高響應，低暗電流。

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